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本导图详细概述了光刻机测量系统的基本概念、功能、分类以及测量原理与技术，旨在为大众读者提供清晰的结构化信息。
大纲
- 光刻机测量系统概述
- 1. 光刻机测量系统简介
- 1.1 定义与作用
- 1.2 学科归属
- 2. 光刻机测量系统的功能
- 2.1 焦面控制
- 2.2 套刻控制
- 2.3 像质控制
- 3. 测量系统分类
- 3.1 垂向测量系统
- 3.1.1 测量原理
- 3.1.2 测量技术
- 3.2 对准测量系统
- 3.2.1 硅片对准测量
- 3.2.2 掩模对准测量
- 3.1 垂向测量系统
- 4. 测量原理与技术
- 4.1 垂向测量原理
- 4.2 多光斑测量原理
- 4.3 相位光栅衍射对准方法
- 1. 光刻机测量系统简介
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