导图创作分享
本导图旨在以通俗易懂的方式，向大众读者介绍光学邻近效应修正在集成电路制造中的重要性、发展历程、修正方法及其在工业级应用中的流程。
大纲
- 光学邻近效应修正：光刻技术的隐形挑战
- 什么是光学邻近效应修正
- 光学邻近效应修正的定义
- 光刻技术中的关键角色
- 光学邻近效应修正的重要性
- 摩尔定律与光刻线宽的挑战
- 光刻图形的非线性失真问题
- 修正技术的发展历程
- 1970年代的早期应用
- 手工添加辅助图形的早期方法
- 修正方法的分类
- 基于规则的修正
- 规则图表的建立与应用
- 0.18微米节点与0.13微米节点的修正需求
- 基于模型的修正
- 90纳米节点的挑战
- 模拟曝光技术的核心
- 基于规则的修正
- 工业级光学邻近效应修正流程
- 测试版图与光刻系统参数
- 光学邻近效应校正试验模型的建立
- 校正过程的控制与分析
- 什么是光学邻近效应修正
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