本导图旨在以通俗易懂的方式，向大众读者介绍光学邻近效应修正在集成电路制造中的重要性、发展历程、修正方法及其在工业级应用中的流程。
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光学邻近效应修正：光刻技术的隐形挑战
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本导图旨在以通俗易懂的方式，向大众读者介绍光学邻近效应修正在集成电路制造中的重要性、发展历程、修正方法及其在工业级应用中的流程。
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