导图创作分享
本导图详细阐述了抗辐射加固方法的基本概念、实施步骤、器件与系统的加固策略,以及设计和分析过程中的关键技术,旨在为读者提供一个全面的抗辐射加固知识框架。
大纲
- 抗辐射加固方法概述
- 1. 抗辐射加固的重要性
- 电子系统在辐射环境中的可靠性要求
- 抗辐射加固的定义与目的
- 2. 抗辐射加固的实施步骤
- 了解辐射环境和辐射效应损伤机制
- 制定失效判据和抗辐射指标
- 进行加固设计
- 3. 半导体分立器件的加固
- 材料选择:低载流子寿命或高掺杂的材料
- 结构设计:薄基区、重掺杂、小尺寸
- 工艺改进:浅结扩散、钝化层材料及厚度
- 封装技术:高真空或适当填充材料
- 器件内部互联:铝线互联
- 筛选方法:电参数筛选和预辐照退火筛选
- 4. 集成电路的加固
- 设计补偿电路以减小辐射影响
- 解决寄生结和闭锁现象
- 采用介质隔离和薄膜电阻
- 反偏结工作于低压条件下
- 5. 电子系统的加固
- 易损性和辐射灵敏度分析
- 子系统或部件的抗辐射指标
- 辐射容限确定与元件器件挑选
- 单元电路加固策略
- 系统级加固措施:屏蔽结构、充填材料、可靠性
- 瞬时辐射效应应对:时间回避法或间隙式工作方式
- 易损部分加固:局部屏蔽或复式电路
- 利用计算机进行模拟分析和辅助电路设计
- 1. 抗辐射加固的重要性
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